HSD大粒径系列
产品参数项目HSD大粒径系列氧化钠(Na2O)%≤0.5二氧化硅(SiO2)%10-50比重(20℃,g/cm?)1.06-1.39PH值(20℃)9.0-10.5粘度(20℃,mm?/s)≤20平均…
HS碱性系列
产品参数项目HS碱性系列氧化钠(Na2O)%≤0.5二氧化硅(SiO2)%10-40比重(20℃,g/cm?)1.06-1.29PH值(20℃)9.0-10.5粘度(20℃,mm?/s)≤20平均粒径…
HS-1430A
产品参数项目HS1430A氧化钠(Na2O)%≤0.5二氧化硅(SiO2)%29-31比重(20℃,g/cm?)1.19-1.21PH值(20℃)9.0-10.5粘度(20℃,mm?/s)3-8平均粒…
HS-1430
产品参数项目HS1430氧化钠(Na2O)%≤0.5二氧化硅(SiO2)%29-31比重(20℃,g/cm?)1.19-1.21PH值(20℃)9.0-10.5粘度(20℃,mm?/s)3-8平均粒径…
HS-830
产品参数项目HS830氧化钠(Na2O)%≤0.5二氧化硅(SiO2)%29-31比重(20℃,g/cm?)1.19-1.21PH值(20℃)9.5-10.5粘度(20℃,mm?/s)4-8平均粒径(…
THN氨型系列
产品参数项目THN氨型系列氧化钠(Na2O)%≤0.01二氧化硅(SiO2)%10-30比重(20℃,g/cm?)1.06-1.20PH值(20℃)9.0-10.5粘度(20℃,mm?/s)≤6.5平…
THZ中性系列
产品参数项目THZ中性系列氧化钠(Na2O)%≤0.1二氧化硅(SiO2)%10-30比重(20℃,g/cm?)1.06-1.20PH值(20℃)7.5-8.0粘度(20℃,mm?/s)≤6.5平均粒…
THSW酸性系列
产品参数项目THSW酸性系列氧化钠(Na2O)%≤0.01二氧化硅(SiO2)%10-30比重(20℃,g/cm?)1.06-1.20PH值(20℃)2.0-4.0粘度(20℃,mm?/s)≤15平均…
THS-515
产品参数项目THS515氧化钠(Na2O)%≤1二氧化硅(SiO2)%13-15比重(20℃,g/cm?)1.091-1.095PH值(20℃)10.8-11.5粘度(20℃,mm?/s)≤5平均粒径…
HS1430-T系列
产品参数项目HS1430-T系列氧化钠(Na2O)%≤0.5二氧化硅(SiO2)%29-31比重(20℃,g/cm?)1.19-1.21PH值(20℃)8-11粘度(20℃,mm?/s)≤12平均粒径…
吸附作用:硅溶胶能够与重金属离子形成稳定的络合物,实现重金属离子的去除;也能够吸附有机物通过物理和化学作用将其从水中去除。絮凝作用:经由压缩双电层、实现电荷中和以及发挥高分子链架桥等功效,促使污水中的…
在熔模铸造工艺中,型壳易被金属液冲垮、破损是制约良品率的核心痛点。传统制壳工艺因粘结剂强度不足、壳层结构松散,高温浇铸时难以承受金属液冲击力,易出现穿壳、砂眼等缺陷,导致铸件报废率升高。针对这一问题,…
氧化硅抛光液是什么? 由纳米二氧化硅颗粒、溶剂、化学助剂等成分组成; 用于材料表面平坦化处理,是 CMP 工艺的核心材料之一; 通过化学腐蚀作用和机械磨削作用配合去除材料表面缺陷、降低表面…
在材料科学不断演进的今天,硅溶胶作为一种关键的无机材料, 正广泛应用于众多行业,发挥着不可或缺的作用。我司精心研发的 HS-1430 和 HS-830 型号硅溶胶,以其卓越的性能,…
高纯电子级硅溶胶,是指纯度在99.999%及以上、直径为纳米级别的二氧化硅颗粒分散在液体介质中形成的胶体溶液,主要用来制备二氧化硅CMP浆料,应用在半导体产业中,实现晶圆化学机械抛光。普通硅溶胶为纳米…