真空蒸馏炉

蒸馏炉

 

 

 

真空蒸馏是在低压、低温环境下，利用不同物质沸点差异实现分离提纯的技术，广泛用于有色金属、稀贵金属、高纯材料制备与杂质去除，核心用途如下：

一、稀散 / 稀贵金属提纯

? 碲、锑、硒、铟、锗：高效去除低沸点杂质与高沸点金属，制备高纯单质及化合物，满足半导体、合金、光电材料需求。

? 金、银、铜：分离锌、镉、铅、砷等易挥发杂质，提升贵金属纯度，适用于精炼除杂与回收提纯。

 

主要参数：Main parameters:

 

? 温区数：4段独立控温；

? 极高温度：1100℃

? 工作温度：300-1000℃；

? 控温精度：?1℃；

? 真空度：2*10?4 Pa

? 单炉产能：100-200kg