石墨烯薄膜设备

石墨烯设备:

 

  

 

概述：

卷对卷（R2R）石墨烯 CVD 炉是面向柔性基底石墨烯连续化量产的核心装备，通过动态进样与分段式 CVD 工艺，实现大面积、高质量石墨烯薄膜的稳定制备，适配半导体、柔性电子、能源材料等高端场景。

一、核心用途

1. 主流应用场景

? 高品质石墨烯薄膜量产：以铜箔 / 纤维布/石墨纸为基底，连续生长大面积单层 / 少层石墨烯，满足透明导电膜、柔性电极需求。

? 柔性电子器件制造：用于柔性触摸屏、柔性传感器、柔性太阳能电池、可穿戴设备的透明导电层制备。

? 功能涂层与复合材料：在金属箔、聚合物膜、纤维表面沉积石墨烯，提升导电性、耐腐蚀性与力学性能。

? 中试与研发放大：支撑实验室工艺向工业级量产转化，实现成核密度、层数均匀性的精准调控。

2. 关键工艺价值

? 连续化生产，效率较静态管式炉提升10 倍以上，年产能可达万平米级。

? 动态张力控制与多温区设计，兼顾基底平整度与石墨烯结晶质量。

? 兼容等离子增强（PE-CVD）模式，可降低生长温度、提升生长速率。

 

主要特点

◆石墨烯薄膜产能（产业化）设备；

◆宽幅卷对卷连续生长；

◆具备自动纠偏；

◆张力可连续调整；

◆薄膜制备过程全自动控制；

主要参数（可按要求定制）:

◆工作温度：900~1600℃

◆卷材直径：1000mm

◆卷材宽度：500mm

◆加热方式：超高频感应加热和电阻加热；

◆卷材运行速度约:5-400mm/min，可调

◆极限真空度：小于3Pa；

◆卷材纠偏：收卷时薄膜两侧边缘偏差小于?0.5 mm