硝酸铈铵CAN铬遮光膜湿法精密蚀刻

详情描述：

硝酸铈铵CAN：(NH?)?Ce(NO?)?是铬遮光膜湿法精密蚀刻氧化剂，广泛用于 LCD 黑矩阵遮光铬膜、光刻铬掩模版、PCB 铬阻光层、光学光栅铬膜蚀刻，凭借高选择比、低侧蚀、纳米级边线精度替代传统高锰酸钾、盐酸系蚀刻液。
一、蚀刻反应原理
SigN4、正/负性光刻胶、钛钨基底，是精密蚀刻核心优势:
Ce4强氧化性(电极电位1.61V),强酸环境选择性氧化金属Cr/氧化铬遮光层，不腐蚀石英、玻璃、SiO2、Cr  3Ce4t =Cr3   3Ce° 
铬变成可溶性铬盐溶于药液，Ce^逐步还原为Ce3;高氯酸维持强酸环境，防止Ce4水解沉淀、抑制铬表面氧化发黑。
适用产品场景
显示领域：LCD/CF 彩色滤光片BM 黑矩阵铬遮光膜、OLED 基板遮光层、COF 铬阻光层；
半导体光刻：石英铬掩模版、PCB 菲林铬遮光版、码盘 / 衍射光栅铬膜；
光学元件：光学镜头铬遮光环、精密狭缝铬遮光片。
优势
? 选择性极强：只溶铬，不伤玻璃 / 基底 / 光刻胶，无基材腐蚀报废；
? 侧蚀极小：湿法蚀刻侧边蚀＜0.1μm，适配超细遮光线路；
? 残渣少：蚀刻产物全水溶，DI 水快速漂洗，无铬渣残留堵孔；
? 兼容正负光刻胶，常温作业、设备投入低。