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硅片硅料回收的主要工艺步骤 昆山伍征多晶硅回收公司

发布时间 2017-05-10 收藏 分享
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 1。在太阳能材料制备过程中,在硅表面涂有一层具有良好性能的减反射薄膜,有害的杂质离子进入二氧化硅层,会降低绝缘性能,清洗后绝缘性能会更好。

  2。在等离子边缘腐蚀中,如果有油污、水气、灰尘和其它杂质存在,会影响器件的质量,清洗后质量大大提高。

  3。硅片中杂质离子会影响P-N 结的性能,引起P-N 结的击穿电压降低和表面漏电,影响P-N 结的性能。

  4。在硅片外延工艺中,杂质的存在会影响硅片的电阻率不稳定。

联系人 顾五征
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